☆LTJ_プロセス開発Gブログ

関係者専用【Only for customers】閲覧コーナー

リソテックジャパンは、環境に配慮した企業活動を行います。 リソテックジャパンは、チームマイナス6%に参加し、環境に配慮した装置作りを心がけております。
≪技術レポート≫

●ArF露光技術
◆ArF レジストの現像中の膨潤挙動の検討
◆ArFレジストのABCパラメータ測定の実際
◆液浸露光中のレジストの反応挙動
◆ArF 露光中の PAG_の反応観察
◆露光中のArFレジストからのアウトガスの分析
◆ArF液浸レジストからのリーチングの分析

●EUV露光技術
◆EUVリソグラフィ技術と評価
◆Study on Photo-chemical Analysis system(VLES)for EUV Lithography
◆講演資料:EUVリソグラフィー技術と評価技術
◆EUV 対応化学増幅レジストの脱保護反応の検討
◆EUVレジストからのアウトガスの分析(日本語版)
◆EUVレジストからのアウトガスの分析(英語版)

●ナノインプリント技術
◆ナノインプリントにおけるプロセス最適化技術
◆ナノインプリント技術へのLTJの取り組み
◆離型プロセスを不要としたレプリカ転写プロセス
◆ナノインプリントの最新技術と装置・材料・応用展開
◆FCPによる残膜厚の均一化技術

●リソグラフィーシミュレーション技術
◆ABC パラメータって何?
◆レジスト・パラメータ・データベース
◆Rate Editorを用いたフォトレジストの高解像化へアプローチ
◆リソグラフィーシミュレーションを利用した感光性樹脂の評価
◆FPD におけるリソグラフィーシミュレーション
◆Prolith を用いたリソグラフィプロセスの最適化
◆化学増幅系ネガ型レジストのシミュレーション技術

●その他の技術
◆フォトレジストのスピン塗布の実際
◆157nmコンタクト露光における超微細パターニングの検討
◆化学増幅レジストからの露光中に生じるアウトガスの検討
◆化学増幅レジストの脱保護反応の観察
◆化学増幅レジストの露光中の脱保護反応の解析

※パスワードはメルマガをご覧下さい。

≪学会・講演聴講レポート≫

◆EUV Symposium 2006参加レポート【スペイン・バルセロナ】
◆2007秋応物聴講報告【 北海道工業大学 】
◆2007_6thEUVLシンポジウム聴講報告
◆2007_6thEUVLシンポジウムプログラム
◆2008_7thEUVLシンポジウムアジェンダ
◆2008_7thEUVLシンポジウムアブストラクト
◆2008_7thEUVLシンポジウム聴講報告
◆2009_octEUVLシンポジウム聴講報告ひらめきNEW

≪LTJオリジナルセミナーご案内≫

2009年7月22日(水)、7月23日(木)の
セミナーは満員御礼にて締め切りました。
次回は2010年2月ごろを予定します。




【過去実施LTJオリジナルセミナー】

□2008年10月21日 ・フォトリソグラフィー材料の技術動向講座
□2008年07月03日 ・リソグラフィー基礎・実習セミナー
□2007年11月21日 ・ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう!
□2007年07月05日 ・化学増幅レジストの画像形成機能を目で見てみよう!
□2007年04月05日 ・ノボラックレジストの画像形成機能を見てみよう!
□2006年12月14日 ・ノボラックレジストの評価とシミュレーション
□2006年09月25日 ・化学増幅レジストの評価とシミュレーション
□2006年08月25日 ・フォトポリマー材料と評価(3)
□2006年03月25日 ・最新インプリント技術
□2005年10月12日 ・シミュレーションパラメータの実測
□2005年08月31日 ・液浸露光技術の評価
□2005年08月21日 ・フォトポリマー材料と評価(2)
□2005年03月18日 ・インプリントの最新技術
□2004年08月23日 ・フォトポリマー材料と評価(1)

≪雑誌投稿レポート≫

◆「感光性樹脂の評価」
【Semiconductor FPD World平成19年5月号 P.66】

◆「NIL最適化技術」
【電子ジャーナル平成19年5月号 P.148】

◆「LTJのナノインプリント装置」
【2007年第1回ナノインプリント技術研究会会報 2007.5.24発行】

◆「レプリカ転写技術MXL」
【Semiconductor FPD world 平成19年8月号 P.48】

◆「EUVレジストの脱保護反応解析」
【Semiconductor FPD world 平成19年11月号 P.82】

◆「6th EUVL Symposium発表」
【RE-P06 29 Oct. 2007】

◆「EUVレジストのDill-Cパラメータの実測」
【Semiconductor FPD world 平成20年2月号 P.74】

◆「ナノインプリントによるナノ・マイクロ混在パターンの製作」
【電子ジャーナル 平成20年6月号 P.130】

◆「UVナノインプリントの平坦化技術」
【プレスジャーナル2009年3月号】

◆「EUVLに向けた超薄膜膜厚測定技術」
【プレスジャーナル2009年5月号】

◆「ArF液浸露光におけるリーチング分析」
【Semiconductor FPD World 7月号】


≪講演会発表資料≫

◆第17回フォトポリマー講習会講演資料
◆第77回VLSI FORUM講演資料
(平成19年12月19日@学士会館)

◆第1回ナノインプリント研究会講演資料
(平成20年5月23日@日本教育会館)

◆ICPST-25(フォトポリコンファランス)発表資料
(平成20年6月27日@千葉大学ケヤキ会館)

◆7th EUVL(2008)シンポジウム発表資料
◆7th NNT(2008)シンポジウム発表資料
◆第204回電子ジャーナルテクニカルセミナー講演資料
(平成21年4月22日)




晩秋のスキー場

先日、仕事で北陸方面へ行きました。
USからのお客様をお連れしての出張だったのですが、
帰路、越後湯沢のスキー場に寄ってみましたのでご紹介します。


この時期のスキー場はススキの穂が揺れています。

091001.JPG


ゴンドラでスキー場の上まで登ってみると、
カラットした涼しい風が吹いていました。
http://www.jalan.net/kankou/spt_15461ee4572007399.html



091002.JPG

スキー場の頂上にはなんと、足湯があり、
無料で入ることができます。
ススキの原のスキー場を見下ろしながらの足湯もなかなか、
おつなものでした。


091003.JPG


越後湯沢の駅には、「ぽんしゅ館」という、
日本酒が試飲できる場所があります。
500円でメダル5個と「おちょこ」が貰えます。
これを、日本酒のベンディングマシーンに入れ、
好きな銘柄を試飲することができるのです。
ちなみに「おつまみ」はありません。。。
隣には販売店があり、なかなかにくい演出ですね。
http://www.ponshukan.com/


091004.JPG


いよいよ、スキーシーズンがやって来るんですね。


091005.JPG