☆LTJ_プロセス開発Gブログ

関係者専用【Only for customers】閲覧コーナー

リソテックジャパンは、環境に配慮した企業活動を行います。 リソテックジャパンは、チームマイナス6%に参加し、環境に配慮した装置作りを心がけております。
≪技術レポート≫

●ArF露光技術
◆ArF レジストの現像中の膨潤挙動の検討
◆ArFレジストのABCパラメータ測定の実際
◆液浸露光中のレジストの反応挙動
◆ArF 露光中の PAG_の反応観察
◆露光中のArFレジストからのアウトガスの分析
◆ArF液浸レジストからのリーチングの分析

●EUV露光技術
◆EUVリソグラフィ技術と評価
◆Study on Photo-chemical Analysis system(VLES)for EUV Lithography
◆講演資料:EUVリソグラフィー技術と評価技術
◆EUV 対応化学増幅レジストの脱保護反応の検討
◆EUVレジストからのアウトガスの分析(日本語版)
◆EUVレジストからのアウトガスの分析(英語版)

●ナノインプリント技術
◆ナノインプリントにおけるプロセス最適化技術
◆ナノインプリント技術へのLTJの取り組み
◆離型プロセスを不要としたレプリカ転写プロセス
◆ナノインプリントの最新技術と装置・材料・応用展開
◆FCPによる残膜厚の均一化技術

●リソグラフィーシミュレーション技術
◆ABC パラメータって何?
◆レジスト・パラメータ・データベース
◆Rate Editorを用いたフォトレジストの高解像化へアプローチ
◆リソグラフィーシミュレーションを利用した感光性樹脂の評価
◆FPD におけるリソグラフィーシミュレーション
◆Prolith を用いたリソグラフィプロセスの最適化
◆化学増幅系ネガ型レジストのシミュレーション技術

●その他の技術
◆フォトレジストのスピン塗布の実際
◆157nmコンタクト露光における超微細パターニングの検討
◆化学増幅レジストからの露光中に生じるアウトガスの検討
◆化学増幅レジストの脱保護反応の観察
◆化学増幅レジストの露光中の脱保護反応の解析

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≪学会・講演聴講レポート≫

◆EUV Symposium 2006参加レポート【スペイン・バルセロナ】
◆2007秋応物聴講報告【 北海道工業大学 】
◆2007_6thEUVLシンポジウム聴講報告
◆2007_6thEUVLシンポジウムプログラム
◆2008_7thEUVLシンポジウムアジェンダ
◆2008_7thEUVLシンポジウムアブストラクト
◆2008_7thEUVLシンポジウム聴講報告

≪LTJオリジナルセミナーご案内≫

2009年7月22日(水)、7月23日(木)に
日産化学工業(株)の花畑様と合同でセミナーを行います。

セミナー題目は、「ノボラックレジストの基礎とリソグラフィー特性を
目で見てみよう!」です。有料ですが実習付きのセミナーなので、
新人の研究員の方などには大変役に立つセミナーかと思います。
同じ内容のセミナーを2日続けて行いますが、1日の定員が5名と少人数ですので、ご興味ある会社様は、お早めにセミナー会社にお申し込みください。

お申込みはこちら



【過去実施LTJオリジナルセミナー】

□2008年10月21日 ・フォトリソグラフィー材料の技術動向講座
□2008年07月03日 ・リソグラフィー基礎・実習セミナー
□2007年11月21日 ・ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう!
□2007年07月05日 ・化学増幅レジストの画像形成機能を目で見てみよう!
□2007年04月05日 ・ノボラックレジストの画像形成機能を見てみよう!
□2006年12月14日 ・ノボラックレジストの評価とシミュレーション
□2006年09月25日 ・化学増幅レジストの評価とシミュレーション
□2006年08月25日 ・フォトポリマー材料と評価(3)
□2006年03月25日 ・最新インプリント技術
□2005年10月12日 ・シミュレーションパラメータの実測
□2005年08月31日 ・液浸露光技術の評価
□2005年08月21日 ・フォトポリマー材料と評価(2)
□2005年03月18日 ・インプリントの最新技術
□2004年08月23日 ・フォトポリマー材料と評価(1)

≪雑誌投稿レポート≫

◆「感光性樹脂の評価」
【Semiconductor FPD World平成19年5月号 P.66】

◆「NIL最適化技術」
【電子ジャーナル平成19年5月号 P.148】

◆「LTJのナノインプリント装置」
【2007年第1回ナノインプリント技術研究会会報 2007.5.24発行】

◆「レプリカ転写技術MXL」
【Semiconductor FPD world 平成19年8月号 P.48】

◆「EUVレジストの脱保護反応解析」
【Semiconductor FPD world 平成19年11月号 P.82】

◆「6th EUVL Symposium発表」
【RE-P06 29 Oct. 2007】

◆「EUVレジストのDill-Cパラメータの実測」
【Semiconductor FPD world 平成20年2月号 P.74】

◆「ナノインプリントによるナノ・マイクロ混在パターンの製作」
【電子ジャーナル 平成20年6月号 P.130】

◆「UVナノインプリントの平坦化技術」
【プレスジャーナル2009年3月号】

◆「EUVLに向けた超薄膜膜厚測定技術」
【プレスジャーナル2009年5月号】

◆「ArF液浸露光におけるリーチング分析」ひらめきNEW
【Semiconductor FPD World 7月号】


≪講演会発表資料≫

◆第17回フォトポリマー講習会講演資料
◆第77回VLSI FORUM講演資料
(平成19年12月19日@学士会館)

◆第1回ナノインプリント研究会講演資料
(平成20年5月23日@日本教育会館)

◆ICPST-25(フォトポリコンファランス)発表資料
(平成20年6月27日@千葉大学ケヤキ会館)

◆7th EUVL(2008)シンポジウム発表資料
◆7th NNT(2008)シンポジウム発表資料
◆第204回電子ジャーナルテクニカルセミナー講演資料
(平成21年4月22日)




「日本一小さい漁港だった小良ヶ浜漁港」

先日、福島へ赴いた。
福島県の太平洋側、小良ヶ浜というところに日本一小さな漁港があった
との話を聞いたからである。現在は廃漁港となっているらしい。
どんなところか、興味を持った次第である。

場所は常磐自動車道路の終点、富岡ICから約30分のところにある。
近くまで行き、地元に人に聞いてみると確かに「日本一小さな漁港」は
あったらしい。
しかし、現在は落石が激しく、立ち入り禁止になっているらしい。

案内に従い細い砂利道を進むと、行き止まりであった。


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【漁港へ続く道 立ち入り禁止になっている】


途中に漁港の成り立ちを説明する看板があった。


090602.jpg

【漁港の成り立ちを説明する看板】


以下に、書き出してみよう。
「独力で小良ヶ浜漁港を開いた三平一見」

■漁港の無い村
独力で小良ヶ浜漁港を開いた三平一見は、
明治14年に小良ヶ浜村に生まれた。
当時、村は戸数70あまり、人口350人の半農半漁の村であったが、
耕地は用水路不備のため、毎年、水不足に悩んでいた。
従って、村民は小良ヶ浜沖の海域から食料を調達していた。
しかし、海岸線は切り立った崖が続き、漁船が停泊する港は無く、
わずか100m足らずの砂浜があるだけであった。港が無いばかりに、
村の漁民は、あたら魚の宝庫を目の前にして、よその漁船に漁場を
荒らされるのを手御こまねいて見過ごすしかなかった。
網元であった一見は、橋の沢の断崖に囲まれた入り江に着目した。
この入り江を囲む断崖をうがち、海につながる湾道を掘れば、
船をだせる港が出来ると判断した。その計画を人々にといて歩いたが、
誰一人として耳を貸すものはなかった。

■一人で岸壁の挑む
ついに彼は独力で、湾道を掘るためにツルハシをふるって、
敢然と岸壁に立ち向かったのである。大正5年、一見35歳の時である。
それから3年、私財をなげうち、借金をしながら工事を進めた。
そして幾多の困難を克服し、大正7年、
ついに「小良ヶ浜漁港」が誕生した。
地元では、この大事業を一人やり遂げた彼の行為を
「大正の青の洞門」と呼び、その偉業をたたえた。
その後、彼は昭和28年まで小良ヶ浜漁業共同組合の組合長として
漁業の振興に力を注いだ。
晩年、彼は港の見える丘に、杖をついて登り、
港を出入りする漁船を飽きることなく眺めていたそうである。
昭和40年1月12日、彼はその苦難に満ちた生涯に幕を下ろした。

とある。

漁港へ続く道を歩いてみた。


090603.jpg

【漁港へ続く道】


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【漁手前で崩落した道路】


漁港手前で道路は海の浸食のためか、崩落していた。脇を進んで行く。


090605.jpg

【小良ヶ浜廃漁港】


やっと廃漁港へたどり着く。
両側は切り立った岸壁で落石がかなり落ちている。
確かに危険である。船を引き上げたと見られる
コンクリートの浜が残されていた。


090606.jpg

【小良ヶ浜漁港の夢の後】


港にはコンクリートの護岸やテトラポットがあり、
ここがかつて漁港でああった事を忍ばせる。
しかし今は、人家も無く、荒涼とした風景であった。
三平一見さんがかつて夢見た夢の漁港は
静かに自然に戻って行くのである。