☆LTJ_アナリシス・サイエンス・グループブログ

関係者専用【Only for customers】閲覧コーナー

リソテックジャパンは、チャレンジ25に参加し、環境に配慮した装置作りを心がけております。

≪技術レポート≫

●ArF露光技術
◆ArF レジストの現像中の膨潤挙動の検討
◆ArFレジストのABCパラメータ測定の実際
◆液浸露光中のレジストの反応挙動
◆ArF 露光中の PAG_の反応観察
◆露光中のArFレジストからのアウトガスの分析
◆ArF液浸レジストからのリーチングの分析
◆Acid-Sensitive Dyesを用いたPAGからの酸 発生挙動解析
◆ArFレジストの現像中の膨潤挙動の検討2
◆ArFレジストの現像中の膨潤挙動の検討3ひらめきNEW

●EUV露光技術
◆EUVリソグラフィ技術と評価
◆Study on Photo-chemical Analysis system(VLES)for EUV Lithography
◆講演資料:EUVリソグラフィー技術と評価技術
◆EUV 対応化学増幅レジストの脱保護反応の検討
◆EUVレジストからのアウトガスの分析(日本語版)
◆EUVレジストからのアウトガスの分析(英語版)

●ナノインプリント技術
◆ナノインプリントにおけるプロセス最適化技術
◆ナノインプリント技術へのLTJの取り組み
◆離型プロセスを不要としたレプリカ転写プロセス
◆ナノインプリントの最新技術と装置・材料・応用展開
◆FCPによる残膜厚の均一化技術

●リソグラフィーシミュレーション技術
◆ABC パラメータって何?
◆レジスト・パラメータ・データベース
◆Rate Editorを用いたフォトレジストの高解像化へアプローチ
◆リソグラフィーシミュレーションを利用した感光性樹脂の評価
◆FPD におけるリソグラフィーシミュレーション
◆Prolith を用いたリソグラフィプロセスの最適化
◆化学増幅系ネガ型レジストのシミュレーション技術
◆ノボラックレジストにおける感光剤濃度の影響

●その他の技術
◆フォトレジストのスピン塗布の実際
◆157nmコンタクト露光における超微細パターニングの検討
◆化学増幅レジストからの露光中に生じるアウトガスの検討
◆化学増幅レジストの脱保護反応の観察
◆化学増幅レジストの露光中の脱保護反応の解析

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≪学会・講演聴講レポート≫

◆EUV Symposium 2006参加レポート【スペイン・バルセロナ】
◆2007秋応物聴講報告【 北海道工業大学 】
◆2007_6thEUVLシンポジウム聴講報告
◆2007_6thEUVLシンポジウムプログラム
◆2008_7thEUVLシンポジウムアジェンダ
◆2008_7thEUVLシンポジウムアブストラクト
◆2008_7thEUVLシンポジウム聴講報告
◆2009_octEUVLシンポジウム聴講報告
◆2009_22nd MNC聴講報告
◆2010_SPIE 聴講報告
◆2010_EUVLシンポIEUVI聴講報告
◆2011_EUVL聴講報告

≪LTJオリジナルセミナーご案内≫

2012年のセミナー予定は、現在未定です。



【過去実施LTJオリジナルセミナー】

□2010年04月27日 ・半導体創世期リソグラフィ技術とレジスト開発の軌跡@
□2009年07月22日 ・ノボラックレジストの基礎とリソグラフィー特性講座
□2008年10月21日 ・フォトリソグラフィー材料の技術動向講座
□2008年07月03日 ・リソグラフィー基礎・実習セミナー
□2007年11月21日 ・ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう!
□2007年07月05日 ・化学増幅レジストの画像形成機能を目で見てみよう!
□2007年04月05日 ・ノボラックレジストの画像形成機能を見てみよう!
□2006年12月14日 ・ノボラックレジストの評価とシミュレーション
□2006年09月25日 ・化学増幅レジストの評価とシミュレーション
□2006年08月25日 ・フォトポリマー材料と評価(3)
□2006年03月25日 ・最新インプリント技術
□2005年10月12日 ・シミュレーションパラメータの実測
□2005年08月31日 ・液浸露光技術の評価
□2005年08月21日 ・フォトポリマー材料と評価(2)
□2005年03月18日 ・インプリントの最新技術
□2004年08月23日 ・フォトポリマー材料と評価(1)

≪雑誌投稿レポート≫

◆「感光性樹脂の評価」
【Semiconductor FPD World平成19年5月号 P.66】

◆「NIL最適化技術」
【電子ジャーナル平成19年5月号 P.148】

◆「LTJのナノインプリント装置」
【2007年第1回ナノインプリント技術研究会会報 2007.5.24発行】

◆「レプリカ転写技術MXL」
【Semiconductor FPD world 平成19年8月号 P.48】

◆「EUVレジストの脱保護反応解析」
【Semiconductor FPD world 平成19年11月号 P.82】

◆「6th EUVL Symposium発表」
【RE-P06 29 Oct. 2007】

◆「EUVレジストのDill-Cパラメータの実測」
【Semiconductor FPD world 平成20年2月号 P.74】

◆「ナノインプリントによるナノ・マイクロ混在パターンの製作」
【電子ジャーナル 平成20年6月号 P.130】

◆「UVナノインプリントの平坦化技術」
【プレスジャーナル2009年3月号】

◆「EUVLに向けた超薄膜膜厚測定技術」
【プレスジャーナル2009年5月号】

◆「ArF液浸露光におけるリーチング分析」
【Semiconductor FPD World 7月号】

◆「ロールインプリントによるモスアイ製作」
【電子ジャーナル 平成21年7月号 p.109】

◆「蛍光測定を用いたUVインプリント材料の評価」
【トライポロジー 平成22年2月号 p.1】


≪講演会発表資料≫

◆第17回フォトポリマー講習会講演資料
◆第77回VLSI FORUM講演資料
(平成19年12月19日@学士会館)

◆第1回ナノインプリント研究会講演資料
(平成20年5月23日@日本教育会館)

◆ICPST-25(フォトポリコンファランス)発表資料
(平成20年6月27日@千葉大学ケヤキ会館)

◆7th EUVL(2008)シンポジウム発表資料
◆7th NNT(2008)シンポジウム発表資料
◆第204回電子ジャーナルテクニカルセミナー講演資料
(平成21年4月22日)




世界遺産 ポンペイに行ってきました

3月に休暇を頂き、イタリアの世界遺産
「ポンペイ」に行ってきました。

ポンペイ遺跡は、イタリア南部の最大都市、
ナポリから南東23kmに位置します。

歴史を紐とくと、古くは紀元前8世紀に
ギリシアの植民者が来訪し、前7世紀頃、
エトリア人も移住して都市国家に成長したそうです。

その後、第2次ポエニ戦争で、カルタゴの
ハンニバルに味方し、ローマに抵抗しました。

やがて、ローマの支配に服し、
急速にローマ化が進んだそうです。

大劇場や神殿、浴場、水道設備などが作られ、
最盛期には2万人のローマ人が住んでいたそうです。

しかし、79年8月24日、ベスビオ火山の大爆発により、
ポンペイの街には大量の火山灰が降り注ぎ、街全体が
埋没したそうです。

死者2000人と推定されています。

その後、街は忘れ去られてしまいました。

1748年から発掘が行われ、火山灰に埋もれる前の
街のたたずまいがそのまま再現されるに至りました。

現在も発掘が続けられているそうです。
(Yahoo百科事典より)



12051.JPG

≪ポンペイの街並≫

石畳が整備されています。
2000年前の街とは思えませんね



12052.JPG

≪大劇場≫

奴隷と猛獣を戦わせて、それを
ローマ人が観戦したそうです



12053.JPG


≪ベスビオ火山とポンペイの中心広場≫

広場の向こうに、ベスビオ火山が
望めます



12054.JPG


≪竈の跡≫

ここで、2000年前、料理が
行われたのでしょうか?



12055.JPG

≪埋もれた人≫

火山灰に埋もれ、肉は朽ちてしまい、
人の形に空洞が残りました。
そこに石膏を流し込んで復元したそうです



イタリアの乾いた風が吹いていました。